研究选用Zircaloy-4、优化型ZIRLO™、LK3三种锆基包壳合金作为基体,采用非平衡磁控溅射技术在基体表面沉积纯Cr涂层、13 at% Nb和24 at% Nb两种Cr-Nb涂层。沉积温度为250 ℃,腔体工作压力0.2 Pa,氩气流量90 sccm,通过调控铬、铌靶材功率精准控制涂层成分,涂层厚度约6.2~8.3 μm。沉积前对锆基管材进行超声清洗与氩等离子体刻蚀,去除表面氧化物和杂质。利用惰性气体熔融法(IGF)检测材料氢含量;同时开展沸水堆高压釜腐蚀测试以及800 ℃、1100 ℃高温蒸汽氧化测试,评估涂层在不同工况下的耐腐蚀与抗氧化能力。
图1. 300 ℃、10 MPa纯水体系中铬的电位-pH图,标注了轻水堆相关运行工况
图2. 铬-铌二元体系相图,标注了本研究测试的涂层成分区间
图3. 长期流动式高压釜腐蚀测试装置示意图与实物照片
图4. 高温蒸汽氧化实验装置示意图、实物照片及样品夹具细节
图5. 沉积态涂层的外表面与截面扫描电子显微镜形貌图
图6. 沉积态铬-铌涂层的波谱仪元素分布线扫描结果
图7. 铬-铌涂层与锆合金基体的掠入射X射线衍射图谱及主峰局部放大图
图8. LK3基体上沉积态76Cr-24Nb涂层的透射电子显微镜形貌图与选区电子衍射花样
图9. 不同载荷下纯铬涂层与铬-铌涂层的维氏硬度压痕扫描电子显微镜形貌图
图10. 沸水堆高压釜长期测试后的样品质量变化、截面扫描电镜-能谱映射图及元素线分布曲线
图11. 经过123天沸水堆高压釜腐蚀测试后各类涂层的表面扫描电子显微镜形貌图
图12. 1100 ℃蒸汽氧化条件下样品的增重量变化曲线
图13. 1100 ℃氧化动力学拟合曲线与防护阶段的抛物线速率常数
图14. 1100 ℃下不同氧化时长样品的宏观外观照片
图15. 1100 ℃下蒸汽氧化5分钟与120分钟后涂层表面扫描电子显微镜形貌图
图16. 1100 ℃蒸汽氧化后纯铬涂层的扫描电镜与能谱元素分布图像
图17. 1100 ℃蒸汽氧化2小时后纯铬涂层样品的能谱元素线扫描结果
图18. 1100 ℃蒸汽氧化后87Cr-13Nb涂层的扫描电镜与能谱元素分布图像
图19. 1100 ℃蒸汽氧化后76Cr-24Nb涂层的扫描电镜与能谱元素分布图像
图20. 1100 ℃蒸汽氧化120分钟后铬-铌涂层界面处的能谱元素线扫描结果
图21. 1100 ℃蒸汽氧化30分钟后76Cr-24Nb涂层样品的30 kV高能能谱元素线扫描结果
图22. 沉积态以及1100 ℃蒸汽氧化1分钟、5分钟后铬-铌涂层的X射线衍射图谱
图23. 800 ℃蒸汽氧化条件下样品增重量变化曲线与不同氧化时长样品的宏观外观
图24. 800 ℃蒸汽氧化后76Cr-24Nb涂层的扫描电镜与能谱元素分布图像
图25. 800 ℃蒸汽氧化不同时长后铬-铌涂层与基体界面的扫描电子显微镜形貌图
图26. 1100 ℃和800 ℃蒸汽氧化后涂层样品的氢含量测试结果
图27. 铬-铌涂层防护性能逐步失效的演化机理示意图
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