重要突破！哈工大科研团队攻克超黑涂层常温制备技术瓶颈

2022-07-07 13:38:55 作者：材料基来源：材料基分享至：

近日，哈工大化工与化学学院吴晓宏教授团队在超黑涂层技术领域取得重要突破，团队攻克了超黑涂层常温制备技术瓶颈，得到了一种朗伯特性显著的高稳定超黑涂层。

经第三方权威机构检测，宽光谱吸收高达99.8%，光线80°入射时总散射积分低至1.5%，可凝挥发物为0.00%，全面满足多种基体、复杂形面、超大面积，实施工艺和空间极端环境应用需求性能与技术成熟度均优于国内外现役同类产品。

超黑涂层能吸收几乎所有照射在其上的光，应用领域十分广泛，绝大多数精密光学仪器都需要超黑涂层来屏蔽光学干扰，提升信噪比和探测能力。此外，超黑涂层能够隐藏高低起伏的物体轮廓，可为设备或人员提供必要的保护。

20多年来，吴晓宏教授团队潜心攻关、攻坚克难产学研用一体化研究不断取得突破。针对工况条件“量身定制”出一系列满足服役环境的超黑涂层，已交付遮光罩、挡光板、光阑筒、定标黑体等产品数千件，成功应用于我国风云、海洋、高分、环境、通信技术试验等数十颗国家型号卫星和天启、天雁、天拓等近百颗商业卫星，有效提升了我国航天器光学载荷的在轨探测能力和定位精度，为保证载荷全寿命周期高性能稳定运行提供了必要条件。

免责声明：本网站所转载的文字、图片与视频资料版权归原创作者所有，如果涉及侵权，请第一时间联系本网删除。